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无锡一净净化设备有限公司
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在高校的微电子、半导体物理实验中,光刻实验是必不可少的实验之一。光刻实验对环境的洁净度要求很高,一般高校在没有财力建设洁净室的情况下,净化工作台成为了进行光刻实验不可缺少的必要设备。一般来说光刻实验进行的步骤有:旋涂光刻胶;光刻胶的前烘;曝光;显影;后烘等步骤构成。在这些实验步骤中所涉及的化学药品较多,而这些化学药品的溶剂多为苯类物质,如果处理不当将给实验人员带来较大的伤害。同时,由于实验的步骤较多,实验人员需要频繁地从净化工作台中取、放物品,这将引入大量的灰尘影响工作时的洁净度。因此,设计一种低成本,有效阻隔有毒气体,提高工作时洁净度的净化工作台显得十分重要。
基于以上的设计要求,一种新型的导流分压式双正压净化工作台结构如图2所示。设计的具体思路如下:
(1)净化工作台的高效过滤器出风口与散流板1在之间增加一个导流分压区。导流分压区的结构如图3所示。导流分压区以高效过滤器出风口和散流板为上下两个面,形成一个腔体,在两面之间用一块倾斜的隔板将该腔体分为两个封闭的梯形区域,如图3中的A和B所示。
(2)作业区内气体的流出。由于实验中所使的药品易挥发出苯、二甲苯等有机溶剂,工作腔体内的气体必须从固定管道排到实验室外,这样才能减少对人体的伤害,因此,在工作台面下增加了一个抽气机达到抽走工作腔体内气体的目的。
(3)化工作台的其他结构与现有的净化工作台3净相同,没有特别的改变。
该净化工作台最大的特点是能在作业区内形成高、低两个正压区域。这是由于导流分压区的图3区A域中,位于高效过滤器出风口的气体流入面面积大,在散流板上的气体流出面面积小。由于流出的面积小于流入的面积,出气流速将大于进气流速,这将在作业区内形成高正压。图3区域中,气体流入面积小于B流出面积,出气流速将小于进气流速,在作业区内所形成的气压较小。高正压区靠近操作人员,即对大气,始终保持正压阻止大气中的灰尘进入工作腔体,又使得低正压区中的有毒气体无法越过,保护了操作人员。同时,操作人员操作时,必须通过高正压区,这就起到了类似传递窗的作用,减少了操作人员带入作业区中的灰尘颗粒。低正压区为主要工作区域,保持正压可以保证作业区的洁净度达到设计要求。通过调节隔板的角度和位置,可以轻松调节高气压区的宽度和气压。